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发布时间:2021-11-10 19:27:43





光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶(又称光致抗蚀剂),是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、x射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。光刻胶是整个光刻工艺的重要部分,也是国际上技术门槛较高的微电子***之一,主要应用在集成电路和平板显示两大产业。光刻胶具有光化学敏***,其经过***、显影、刻蚀等工艺,可以将设计好的微细图形从掩膜版转移到待加工基片。因此光刻胶微细加工技术中的关键性化工材料,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作。生产光刻胶的原料包括光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体和其他助剂等。
光刻胶国内的研发起步较晚
光刻胶的研发,关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。近年来,尽管光刻胶研发有了一定突破,但国产光刻胶还是用不起来。光刻胶主要成分有高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂,开发所涉及的技术难题众多,需从低聚物结构设计和筛选、合成工艺的确定和优化、活性单体的筛选和控制、色浆细度控制和稳定、产品配方设计和优化、产品生产工艺优化和稳定、终使用条件匹配和宽容度调整等方面进行调整。因此,要自主研发生产,技术难度非常之高。
在光刻胶研发上,我国起步晚,2000年后才开始重视。近几年,虽说有了快速发展,但整体还处于起步阶段。事实上,工艺技术水平与国外企业有着很大的差距,尤其是材料及设备都仍依赖进口。
光刻的工序
下面我们来详细介绍一下光刻的工序:
一、清洗硅片(Wafer Clean)
清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少其它缺陷,提高光刻胶黏附性
基本步骤:化学清洗——漂洗——烘干。
自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以RCA清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来,例如:美国FSI公司推出离心喷淋式化学清洗技术、美国原CFM公司推出的Full-Flow systems封闭式溢流型清洗技术、美国VERTEQ公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技术(例Goldfinger Mach2清洗系统)、美国SSEC公司的双面檫洗技术(例M3304 DSS清洗系统)、 日本提出无药液的电介离子水清洗技术(用电介超纯离子水清洗)使抛光片表面洁净技术达到了新的水平、以HF / O3为基础的硅片化学清洗技术。正胶PR1-2000A1技术资料正胶PR1-2000A1是为***波长为365或者436纳米,可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。
NR9-1000py
问题回馈:
1.我们是LED制造商,麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知,Futurrex
有几款胶很,NR7-1500P
NR7-3000P是专门为离子蚀刻



设计的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。
2.请问有没有可以替代goodpr1518,Micropure去胶液和goodpr显影液的产品?
A 美国光刻胶,Futurrex
正胶PR1-2000A
, 去胶液RR4,和显影液RD6可以解决以上问题。
3.你们是否有可以替代Shipley
S1805的用于DVD的应用产品?
A 我们建议使用Futurrex
PR1-500A , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,
反射比较少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~
4. 求助,耐高温的光阻是那一种?
A Futurrex, NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻),再经过HMCTS
silyiation process,可以达到耐高温200度,PSPI透明polyimide,可耐高温250度以上。
5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的湿膜更加适合,和理想。
6.请教LIFT-OFF制程哪一种光阻适合?
A 可以考虑使用Futurrex
,正型光阻PR1,负型光阻用NR1&NR7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。
7.请问,那位知道,RIE
Mask,用什么光阻比较好?
A 正型光阻用PR1系列,负型光阻使用NR5,两种都可以耐高温180度。
8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?
A NR9-8000P有很高的深宽比(超过4:1),一般厚膜以及,MEMS产品的高需求。
9.在DEEP
RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗?
A 建议不使用,因为使用NR5-8000更加理想和适合。
10.我们是OLED,我们有一种制程上需要一层SPACER,那种光阻适合?
A 有一种胶很适合,美国Futurrex
生产的NR1-3000PY
and和
NR1-6000PY,都适合在OLED制程中做spacers
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